Технологическое оборудование

Участок эпитаксии оснащен современными высокопроизводительными эпитаксиальными установками, которые применяются крупнейшими мировыми полупроводниковыми производителями.

Мы используем эпитаксиальные реакторы вертикального типа, которые обеспечивают превосходное качество осаждаемых слоев и уникальные характеристики процесса для толстых слоев.

Оборудование позволяет проводить эпитаксиальные процессы как при атмосферном, так и при пониженном давлении.

В целях обеспечения повышенной чистоты в зону загрузки пластин вынесены только элементы управления технологическим оборудованием и загрузочные камеры.