Конференция Потребителей АО "Эпиэл" в честь 20-летия компании
-
26.10.2018
26 октября 2018 г. в Москве прошла Конференция Потребителей АО "Эпиэл", приуроченная к 20-летию компании. Мероприятие было организовано АО "Эпиэл" в целях консолидации предприятий отечественной микроэлектроники, стимулирования внутриотраслевой кооперации и выработки согласованного видения перспективных направлений развития отрасли. В Конференции приняли участие представители многих российских производителей микроэлектроники. В Программе Конференции звучали доклады участников о текущем развитии предприятий, перспективных разработках и планах по освоению новых технологий и продуктов. Тематики докладов участников Конференции приведены ниже:
- Эпиэл завтра. Освоение перспективных материалов // Стаценко В.Н. (АО «Эпиэл», председатель совета директоров, главный конструктор)
- Технология получения высокоомных эпитаксиальных слоев кремния // Люблин В.В. (АО «Эпиэл», главный технолог)
- Технологические газы российского производства для микроэлектроники // Босый П.Н. (ООО "Фирма "ХОРСТ", Руководитель отдела продаж)
- Повышение качества двухслойной эпитаксии со скрытыми слоями различного типа проводимости. Совместная разработка технологии формирования скрытых эпитаксиальных слоев, для производства серии современных TVS-диодов третьего поколения // Соловьев В.В. (АО «ВЗПП-Микрон», Зам. начальника цеха кристального производства)
- Эпитаксиальные структуры для TVS-диодов и низковольтных диодов Зенера // Шварц Г.М. (АО «Эпиэл», начальник лаборатории)
- Использование метода газотранспортной хлоридной эпитаксии для получения толстых слоев кремния для кремниевых структур с диэлектрической изоляцией (КСДИ) // Тарасов Д.В. (АО «Эпиэл», инженер-исследователь)
- Высокоточные датчики давления МИДА на основе структур кремний-на-сапфире // Савченко Е.Г. (ЗАО «МИДАУС», ИО начальника НИЛ)
- Изучение подвижности электронов и ВАХ полевых транзисторов в зависимости от структурных и электрофизических характеристик ультратонкого кремния на сапфире // Федотов С.Д. (АО «Эпиэл», научный сотрудник); Романов А.А. (АО «Ангстрем»); Егоров Н.Н. (АО «НИИМВ»)
- Структуры кремний-на-сапфире для радиационно-стойких КМОП СБИС // Чумак В.Д. (АО «Эпиэл», главный конструктор структур КНС)
- Текущее состояние и перспективы использования кремниевых пластин с эпитаксиальным слоем в производстве ФПЗС в НПП «ЭЛАР» // Патоков Н.О. (АО «НПП «ЭЛАР»)
- Исследование процесса молекулярно-лучевого роста гетероэпитаксиальных слоев Ga(Al)N на темплейтах 3С-SiC/Si // Федотов С.Д. (АО «Эпиэл», научный сотрудник)