Продукция
Эпитаксиальные структуры Кремний на Сапфире (КНС)
В 2007 году в АО «Эпиэл» было успешно освоено производство эпитаксиальных структур Кремний на Сапфире (КНС) диаметром 76 мм. Сегодня мы производим структуры КНС диаметром 76, 100 и 150 мм для таких применений как:
Структуры КНС находят применение в производстве электронных компонентов как гражданского, так и промышленного назначения. В частности на их основе производятся высокочастотные интегральные схемы, применяемые в электронных системах связи, оптоэлектронике и других областях применений. |
|
| Диапазон параметров Структур КНС | |
|---|---|
| Диаметр подложки | 76 мм, 100 мм, 150 мм |
| Ориентация | (1012) ± 1º |
| Легирующая примесь подложки | - |
| Толщина эпитаксиального слоя, мкм | 0,3 – 2,0 |
| Легирующая примесь эпитаксиального слоя | Фосфор, Бор |
| Удельное сопротивление эпитаксиального слоя, Ом.см |
|
| n-тип | в соответствии со спецификацией |
| p-тип | 1,0 – 0,01 |
