ЭПИструктуры для ЭЛектроники
ENG  |  RUS 

Новости

  • 10.10.2019 Представители АО "Эпиэл" приняли участие в V Международном Форуме «Микроэлектроника 2019»
    IMG V Международный Форум «Микроэлектроника 2019» проходил с 30 сентября по 5 октября в г. Алушта, Республика Крым. В рамках программы Форума представители АО "Эпиэл" выступили с докладом на тему «Формирование переходного слоя AlN на темплейтах 3С-SiC/Si(111) методом аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии» и «Влияние твердофазной рекристаллизации с двойной имплантацией на плотность структурных дефектов в ультратонких слоях кремния на сапфире».


Москва, Зеленоград, 1-ый Западный проезд 12, стр. 2 (на карте)
Телефон/факс: +7 (499) 995 0049
coweb