ЭПИструктуры для ЭЛектроники
ENG  |  RUS 

Представители АО "Эпиэл" приняли участие в V Международном Форуме «Микроэлектроника 2019»

  • Представители АО "Эпиэл" приняли участие в V Международном Форуме «Микроэлектроника 2019» 10.10.2019 V Международный Форум «Микроэлектроника 2019» проходил с 30 сентября  по 5 октября в г. Алушта, Республика Крым. Форум является главной коммуникационной площадкой для обсуждения последних технологических и рыночных тенденций радиоэлектронной отрасли. За четыре года успешной работы мероприятие объединило более 1 000 участников и 400 компаний из России, Белоруссии, Армении, КНР и США. Его организаторы - АО «НИИМА «Прогресс», АО «НИИМЭ» и НИУ «МИЭТ». Мероприятие состоялось при поддержке Минпромторга России, Союза машиностроителей России, ГК «Ростех», АО «Росэлектроника» и Фонда «Сколково».

    В рамках программы Форума представители АО "Эпиэл" выступили с докладом на тему «Формирование переходного слоя AlN на темплейтах 3С-SiC/Si(111) методом аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии» и «Влияние твердофазной рекристаллизации с двойной имплантацией на плотность структурных дефектов в ультратонких слоях кремния на сапфире».

Возврат к списку

Москва, Зеленоград, 1-ый Западный проезд 12, стр. 2 (на карте)
Телефон/факс: +7 (499) 995 0049
coweb