ЭПИструктуры для ЭЛектроники
ENG  |  RUS 
История

История

АО «Эпиэл» было образовано в 1998 году в Зеленограде специалистами НИИ Материаловедения, завода «Микрон» и НИИ Точного Машиностроения на базе участка эпитаксии завода «Микрон» в качестве самостоятельного предприятия, специализирующегося на производстве кремниевых эпитаксиальных структур для отечественной микроэлектроники.

За сравнительно короткий срок компания превратилась в российского лидера в сфере эпитаксии кремния. Это стало возможным благодаря концентрации в АО «Эпиэл» лучших отечественных специалистов в области эпитаксии, а также благодаря высокой ответственности перед потребителями и постоянному совершенствованию технологий эпитаксиального производства компании.

Диаметр пластины, из которой изготовлена эпитаксиальная структура, является основополагающим параметром, который в значительной степени отражает уровень технологии как производителей структур, так и производителей электронных компонентов. Начав с производства кремниевых эпитаксиальных структур диаметром 60, 76 и 100 мм на отечественном оборудовании, предприятие прошло путь поэтапной модернизации, расширения производства и совершенствования технологий. Результатом этой работы является современное отечественное инновационное производство кремниевых эпитаксиальных структур диаметром до 200 мм, не уступающее по уровню технологии зарубежным производителям.

История АО «Эпиэл» в датах


2017

Сертификация СМК на соответствие стандарту ISO 9001:2015

2014

Расширены мощности нового производственного участка за счет введения дополнительного оборудования для производства кремниевых эпитаксиальных структур диаметром 150 и 200 мм

2012

В рамках программы модернизации предприятия запущен новый производственный участок и начато освоение производства эпитаксиальных структур диаметром 200 мм

2010

Освоение производства эпитаксиальных структур Кремний на Сапфире диаметром 76 и 100 мм для Интегральных Схем и Тензодатчиков

2009

В Эпиэл изготовлена первая в России и СНГ эпитаксиальная структура диаметром 200 мм

2008

Сертификация СМК на соответствие стандарту ISO 9001:2008

2006

Освоение технологий производства эпитаксиальных структур с 2-мя скрытыми слоями

2005

Освоение технологий производства эпитаксиальных структур для ДМОП транзисторов, УБД

2004

Сертификация СМК на соответствие стандарту ISO 9001:2000

2003

Освоение технологий производства эпитаксиальных структур для IGBT, диодов Шоттки, силовых транзисторов

2002

Сертификация СМК на соответствие стандарту ISO 9002:1994

2000

Запуск нового участка для производства эпитаксиальных структур диаметром до 150 мм

1998

Год основания

Москва, Зеленоград, улица Академика Валиева 6 (бывший 1-й Западный проезд 12), стр. 2 (на карте)
Телефон/факс: +7 (499) 995 0049
coweb