ЭПИструктуры для ЭЛектроники
ENG  |  RUS 

В рамках программы модернизации предприятия запущен новый производственный участок и начато освоение производства эпитаксиальных структур диаметром 200 мм

  • 20.11.2012 Новый производственный участок является основой проекта комплексной модернизации предприятия. Как ранее сообщалось, в рамках проекта ЗАО «Эпиэл» создает производство нового технологического уровня, которое призвано полностью обеспечить потребности передовых отечественных производителей электронных компонентов эпитаксиальными структурами мирового уровня диаметром до 200 мм.
    Проект предполагает оснащение нового эпитаксиального производства оборудованием высокого класса на каждом этапе технологии, включая подготовку пластин, эпитаксиальное наращивание и контроль параметров.
    На первом этапе модернизации были созданы и введены в эксплуатацию производственные помещения высокого класса чистоты (10, 100 и 1000). В новых «чистых комнатах» установлен комплекс оборудования, включающий контрольно-измерительные устройства, автоматизированную линию химической отмывки пластин и установку эпитаксиального осаждения кремниевых слоев на пластинах диаметром 150 и 200 мм.
    Площадь и инфраструктура нового участка рассчитаны на дальнейшее расширение производства. На следующем этапе ЗАО «Эпиэл» планирует увеличить мощности за счет ввода дополнительного технологического оборудования. Это также позволит расширить линейку выпускаемых эпитаксиальных структур.

Возврат к списку

Москва, Зеленоград, 1-ый Западный проезд 12, стр. 2 (на карте)
Телефон/факс: +7 (499) 995 0049
coweb