ЭПИструктуры для ЭЛектроники
ENG  |  RUS 
Представители АО "Эпиэл" приняли участие в 10-й Международной конференции по кремниевой эпитаксии и гетероструктурам 14-19 мая

Представители АО "Эпиэл" приняли участие в 10-й Международной конференции по кремниевой эпитаксии и гетероструктурам 14-19 мая

  • 22.05.2017
    IMG
    IMG
    IMG
    IMG
    IMG
    IMG

    10-я Международная конференция по кремниевой эпитаксии и гетероструктурам (ICSI-10) проходила в Университете Ворвик, г. Ковентри, Великобритания с 14 по 19 мая 2017 г. ICSI - это ключевая международная конференция, которая освещает научные, инженерно-технические и технологические аспекты кремниевой эпитаксии.

    В конференции приняли участие представители ведущих научных организаций, в т.ч. imec, LETI, AIST, а также предприятий промышленности, прозвучали доклады о последних достижениях в области кремниевой эпитаксии и гетероструктур, прошли обсуждения технологических инноваций, перспективных исследований и разработок.

    Представители АО "Эпиэл" приняли участие в работе конференции с двумя стендовыми докладами, а также в выставочной части в качестве экспонента. Доклады АО "Эпиэл" были посвящены следующим темам:

    • - Новые подходы к процессу производства структур крений-на-сапфире (В докладе обсуждаются нюансы технологии эпитаксиального роста кремния на сапфире)
    • - Технология эпитаксии посредством массопереноса в сэндвич-системе при атмосферном давлении (Доклад описывает уникальную разработку АО "Эпиэл" по эпитаксиальному росту методом массопереноса)

    Подробнее о конференции ICSI-10 можно прочитать на сайте конференции.


Возврат к списку

Москва, Зеленоград, 1-ый Западный проезд 12, стр. 2 (на карте)
Телефон/факс: +7 (499) 995 0049
coweb