ЭПИструктуры для ЭЛектроники
ENG  |  RUS 
Технологическое оборудование

Технологическое оборудование

Участок эпитаксии оснащен современными высокопроизводительными эпитаксиальными установками, которые применяются крупнейшими мировыми полупроводниковыми производителями.

Мы используем эпитаксиальные реакторы вертикального типа, которые обеспечивают превосходное качество осаждаемых слоев и уникальные характеристики процесса для толстых слоев.

Оборудование позволяет проводить эпитаксиальные процессы как при атмосферном, так и при пониженном давлении.

В целях обеспечения повышенной чистоты в зону загрузки пластин вынесены только элементы управления технологическим оборудованием и загрузочные камеры.

Москва, Зеленоград, 1-ый Западный проезд 12, стр. 2 (на карте)
Телефон/факс: +7 (499) 995 0049
coweb