ЭПИструктуры для ЭЛектроники
ENG  |  RUS 

ЗАО «Эпиэл» получило финансирование на расширение производства и освоение диаметра 200 мм

  • 23.12.2011 Кредитная линия для финансирования проекта комплексной модернизации и освоения производства эпитаксиальных структур диаметром 200 мм в ЗАО «Эпиэл» была одобрена в декабре. Создаваемое в рамках проекта производство призвано полностью обеспечить потребности передовых отечественных производителей электронных компонентов эпитаксиальными структурами мирового уровня диаметром 200 мм.

    Проект предполагает оснащение нового эпитаксиального производства оборудованием высокого класса на каждом этапе технологии, включая подготовку пластин, эпитаксиальное наращивание и контроль параметров. За счет освоения диаметра 200 мм ЗАО «Эпиэл» планирует в том числе расширить поставки зарубежным заказчикам.

    Технологической основой для реализации настоящего проекта послужат собственные технологические разработки ЗАО «Эпиэл». В течение нескольких лет компанией проводились и проводятся опытно-конструкторские работы, посвященные разработке технологий изготовления новых типов кремниевых эпитаксиальных структур диаметром до 200 мм.

    Реализация проекта была ранее намечена на I – IV кварталы 2011 года, однако, из-за общей нестабильности в экономике проект пришлось отложить на 12 месяцев. В 2012 году новый участок производства эпитаксиальных структур планируется ввести в эксплуатацию.

Возврат к списку

Москва, Зеленоград, 1-ый Западный проезд 12, стр. 2 (на карте)
Телефон/факс: +7 (499) 995 0049
coweb