ЭПИструктуры для ЭЛектроники
ENG  |  RUS 

В течение 2011 года ЗАО «Эпиэл» планирует провести реконструкцию и модернизацию эпитаксиального участка, и освоить производство эпитаксиальных структур диаметром 200 мм

  • 01.11.2010

    Являясь безусловным лидером на российском рынке эпитаксиальных структур, ЗАО «Эпиэл» тщательно следит за процессом развития отечественной микроэлектронной отрасли. Ключевым сдвигом в этом процессе является начало освоения лидерами российской микроэлектроники производства компонентов современного уровня проектных норм на пластинах диаметром 200 мм. Пионером в этом направлении выступает один из крупнейших заказчиков ЗАО «Эпиэл» - ОАО «НИИМЭ и Микрон», осваивающий производство микросхем с проектными нормами 90 нм на 200 мм пластинах.

    ЗАО «Эпиэл» рассматривает в качестве основного стратегического направления развития постоянные инновации, направленные на совершенствование качества выпускаемых и разработку новых типов кремниевых эпитаксиальных структур с опережающим освоением их производства под будущие планы развития клиентов. Ключевая задача компании – сохранить лидерство на внутреннем рынке за счет охвата нового сегмента – эпитаксиальных структур диаметром 200 мм.

    С этой целью ЗАО «Эпиэл» инициирован проект комплексной модернизации и освоения производства эпитаксиальных структур диаметром 200 мм. Создаваемое в рамках проекта производство призвано полностью обеспечить потребности передовых отечественных производителей электронных компонентов эпитаксиальными структурами мирового уровня диаметром 200 мм.

    На данный момент выполнена стадия предпроектного планирования. Реализация проекта намечена на I – IV кварталы 2011 года. В I квартале 2012 года новый участок производства эпитаксиальных структур планируется ввести в эксплуатацию.

    Технологической основой для реализации настоящего проекта послужат собственные технологические разработки ЗАО «Эпиэл». В течение нескольких лет компанией проводились и проводятся опытно-конструкторские работы, посвященные разработке технологий изготовления новых типов кремниевых эпитаксиальных структур диаметром до 200 мм.

    На имеющемся в ЗАО «Эпиэл» оборудовании промышленный выпуск таких структур является экономически неэффективным. Для организации серийного производства эпитаксиальных структур диаметром 200 мм требуется приобретение и инсталляция нового технологического оборудования более высокого класса.

    Поскольку в настоящее время наблюдается заметное отставание в отечественной электронной промышленности от уровня технологии и производства ведущих мировых фирм, работающих в области материалов и приборов электронной техники, при реализации данного проекта ЗАО «Эпиэл» опирается на опыт и наработки мировых лидеров электронной промышленности. При проектировании создаваемого производства вопросы формирования производственных линий и оснащения их технологическим, вспомогательным и метрологическим оборудованием решались с привлечением зарубежных отраслевых экспертов-консультантов (Silicon Quest International (США), The Production and Engineering Management Group (США)). Консультации экспертов позволили сформировать оптимальный состав комплекта оборудования для создаваемого производства.

Возврат к списку

Москва, Зеленоград, 1-ый Западный проезд 12, стр. 2 (на карте)
Телефон/факс: +7 (499) 995 0049
coweb